[实用新型]一种霍尔离子源气路结构有效
| 申请号： | 201820569952.9 | 申请日： | 2018-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN208136326U | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 薛照明;李围红;薛海 | 申请（专利权）人： | 成都金雅克电气有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 李龙 |
| 地址： | 610000 四川省成都*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种霍尔离子源气路结构，涉及真空镀膜技术领域，包括依次连接的进气装置、缓冲装置以及反应腔，所述缓冲装置包括上、下设置的气体分配器和陶瓷碗，所述陶瓷碗和气体分配器均为圆盘状，所述陶瓷碗的上表面设置有环形减压腔，其环形减压腔上设置有通气孔，所述通气孔与进气装置连接，所述气体分配器沿圆心均匀设置有多个出气孔，多个所述出气孔与反应腔接通，通过对气体进入反应室的线路进行规划，解决了现有技术中增加反应气体离化效率度的同时降低了真空度的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 气体分配器 陶瓷碗 环形减压腔 霍尔离子源 缓冲装置 进气装置 气路结构 出气孔 反应腔 通气孔 真空镀膜技术 本实用新型 圆心 反应气体 均匀设置 依次连接 反应室 上表面 圆盘状 离化 接通 规划 | ||
【主权项】：
1.一种霍尔离子源气路结构，包括依次连接的进气装置(1)、缓冲装置(2)以及反应腔，其特征在于，所述缓冲装置(2)包括上、下设置的气体分配器(4)和陶瓷碗(5)，所述陶瓷碗(5)和气体分配器(4)均为圆盘状，所述陶瓷碗(5)的上表面设置有环形减压腔(6)，其环形减压腔(6)上设置有通气孔(7)，所述通气孔(7)与进气装置(1)连接，所述气体分配器(4)沿圆心均匀设置有多个出气孔(8)，多个所述出气孔(8)与反应腔接通。
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