[实用新型]一种衍射元件及高分辨率光谱仪有效

专利信息
申请号: 201820589258.3 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN208780341U 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 蔡志坚;吴利;苏衍峰;吴建宏 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/04
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 杨慧林
地址: 215104 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及光谱检测设备领域,公开了一种衍射元件及高分辨率光谱仪。待测光源通过准直透镜平行入射到所述光谱仪的衍射元件上,所述衍射元件由多个衍射光栅单元构成,所述衍射光栅单元的刻痕密度分布和/或刻痕倾斜方向不同,待测光经过所述衍射元件后发生无规则散射,通过图像传感器记录待测光在零级衍射处和一级衍射处的散斑图案,再由光谱分析系统将所述散斑图案与波长‑散斑图案标准库进行比对,反推出待测光的光谱数据。本实用新型的光谱仪结构简单、具有高分辨率,并且人为可控、可进行批量生产,同时使用该光谱仪进行光谱检测误差小、操作简单,具有广泛的应用价值。
搜索关键词: 衍射元件 光谱仪 散斑图案 测光 高分辨率光谱仪 衍射光栅单元 本实用新型 刻痕 光谱分析系统 光谱检测设备 图像传感器 高分辨率 光谱检测 光谱数据 零级衍射 密度分布 倾斜方向 一级衍射 准直透镜 标准库 无规则 散射 波长 比对 可控 入射 光源 平行 记录 应用 生产
【主权项】:
1.一种衍射元件,包括基板以及刻于所述基板上的多个衍射光栅单元,其特征在于:单块衍射光栅单元内刻痕密度分布相同且刻痕倾斜方向相同,而任意两块衍射光栅单元的刻痕密度分布不同和/或刻痕倾斜方向不同。
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