[实用新型]一种气浮装置、工件台和光刻机有效
| 申请号： | 201820628746.0 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN208224713U | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 吴文娟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种气浮装置、工件台和光刻机，该气浮装置包括承载单元和气浮单元；所述承载单元固定连接于所述气浮单元的第一表面；所述气浮单元包括多个出气口，所述多个出气口在所述气浮单元的第二表面呈阵列分布；所述气浮单元的第二表面与第一表面相对设置。本实用新型的技术方案通过在气浮单元的第二表面设置呈阵列分布的出气口，使气浮装置的第二表面受力均匀，变形小，从而提高了气浮装置的气浮刚度。 | ||
| 搜索关键词： | 气浮单元 第二表面 气浮装置 出气口 本实用新型 承载单元 第一表面 阵列分布 工件台 光刻机 受力均匀 相对设置 气浮 变形 | ||
【主权项】：
1.一种气浮装置，其特征在于，包括承载单元和气浮单元；所述承载单元固定连接于所述气浮单元的第一表面；所述气浮单元包括多个出气口，所述多个出气口在所述气浮单元的第二表面呈阵列分布；所述气浮单元的第二表面与第一表面相对设置。
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