[实用新型]一种真空腔室腔内升降机构有效

专利信息
申请号: 201820668761.8 申请日: 2018-05-04
公开(公告)号: CN208250461U 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 朱海剑;庄正军;丁建宁;袁宁一;上官泉元 申请(专利权)人: 常州比太黑硅科技有限公司
主分类号: C30B33/12 分类号: C30B33/12;H01J37/32
代理公司: 北京集智东方知识产权代理有限公司 11578 代理人: 张红;程立民
地址: 213164 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种真空腔室腔内升降机构,其对称安装于真空腔室的底部四个角,并通过密封套、O型圈一、Y型密封圈、O型圈二、升降轴和真空腔室共同形成一个良好的密封环境,使外部气体无法进入真空腔室,气缸在驱动气体的推动下实现上下动作,从而带动升降轴和顶板托着载板进行升降动作,在有腐蚀气体的环境下不但能长期保证良好的动密封效果,而且各升降机构之间能保证良好的同步性。
搜索关键词: 真空腔室 升降机构 升降轴 腔内 本实用新型 对称安装 腐蚀气体 密封环境 驱动气体 上下动作 升降动作 外部气体 动密封 密封套 同步性 气缸 载板 保证
【主权项】:
1.一种真空腔室腔内升降机构,其特征在于,包括安装于真空腔室的腔室底板外侧的固定底座,所述固定底座上安装有气缸,所述气缸驱动有升降轴,所述升降轴的一端通过所述腔室底板伸入所述真空腔室内部且端部设置有对应载板的顶板;所述固定底座与腔室底板之间以及所述固定底座与升降轴之间均设置有密封组件以防止外部气体进入所述真空腔室的内部。
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