[实用新型]一种能够提高镀膜均匀性的石墨载具有效
| 申请号： | 201820681766.4 | 申请日： | 2018-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN208336169U | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 韩晓辉;秦积海 | 申请（专利权）人： | 晋能清洁能源科技股份公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673;H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人： | 夏哲华 |
| 地址： | 032100 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本实用新型的能够提高镀膜均匀性的石墨载具，沉积炉内设置若干横向并列的能够装载太阳能晶硅电池片的石墨舟，每片石墨舟通过支撑架支撑固定，相邻支撑架之间通过陶瓷支撑套分隔支撑，支撑架之间距离不均匀，位于外侧的支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片之间距离大于位于内侧的支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片之间距离，从外侧向内侧支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片间距逐渐缩小，以提高电场强度，补偿因温度不同导致的膜层沉积速度的不同，实现了对膜层沉积速度的有效控制，使得膜层厚度均匀性表现更为优异。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑架 石墨舟 太阳能晶硅电池片 镀膜均匀性 石墨 载具 膜层厚度均匀性 本实用新型 横向并列 膜层沉积 陶瓷支撑 有效控制 支撑固定 逐渐缩小 不均匀 沉积炉 对膜层 沉积 分隔 装载 支撑 表现 | ||
【主权项】：
1.一种能够提高镀膜均匀性的石墨载具，包括沉积炉，沉积炉内设置有若干横向并列设置的能够装载太阳能晶硅电池片(1)的石墨舟，每片石墨舟通过支撑架支撑固定，相邻支撑架之间通过陶瓷支撑套(2)分隔支撑，其特征在于：所述每片支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片(1)与相邻支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片(1)之间距离不均匀，位于外侧的支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片(1)之间距离大于位于内侧的支撑架上石墨舟中的太阳能晶硅电池片(1)架之间距离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
