[实用新型]一种大型曝光机用可增加良率的改进结构有效
申请号: | 201820694109.3 | 申请日: | 2018-05-10 |
公开(公告)号: | CN208270940U | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 苏伟;王雷;王海峰;高荣亮;陆永荣 | 申请(专利权)人: | 深圳市志凌伟业技术股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人: | 马金华 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种大型曝光机用可增加良率的改进结构,包括机体、下玻璃和导气条,所述机体的上方左侧固定有真空泵,且真空泵的右侧安装有固定柱,所述固定柱的右下方设置有底板,且底板的上方安装有下框架,所述下玻璃固定于下框架的上方,所述固定柱的右侧安装有后板,且后板的上方固定有气缸,所述气缸的下端设置有活塞杆,且活塞杆的两侧固定有联动杆,所述联动杆的下方安装有上框架,且上框架的下方固定有上玻璃,所述底板的两侧设置有滑槽。该大型曝光机用可增加良率的改进结构设置有两个真空泵,真空泵可以利用真空吸嘴通过导气条将产品区域内的空气排走,使得膜材在密闭环境的曝光过程中能够避免受到外界环境的污染。 | ||
搜索关键词: | 真空泵 底板 改进结构 固定柱 曝光机 良率 活塞杆 联动杆 上框架 下玻璃 下框架 导气 后板 气缸 本实用新型 产品区域 两侧设置 密闭环境 曝光过程 外界环境 真空吸嘴 上玻璃 滑槽 膜材 下端 污染 | ||
【主权项】:
1.一种大型曝光机用可增加良率的改进结构,包括机体(1)、下玻璃(6)和导气条(19),其特征在于:所述机体(1)的上方左侧固定有真空泵(2),且真空泵(2)的右侧安装有固定柱(3),所述固定柱(3)的右下方设置有底板(4),且底板(4)的上方安装有下框架(5),所述下玻璃(6)固定于下框架(5)的上方,所述固定柱(3)的右侧安装有后板(7),且后板(7)的上方固定有气缸(9),所述气缸(9)的下端设置有活塞杆(8),且活塞杆(8)的两侧固定有联动杆(10),所述联动杆(10)的下方安装有上框架(11),且上框架(11)的下方固定有上玻璃(12),所述底板(4)的两侧设置有滑槽(13),所述下框架(5)的内部设置有定位凹槽(14),且定位凹槽(14)的内侧固定有膨胀密封圈(15),所述膨胀密封圈(15)的内侧安装有下玻璃(6),且下玻璃(6)的两侧固定有夹具(16),所述膨胀密封圈(15)的上方固定有真空吸嘴(17),且真空吸嘴(17)的右侧设置有气压传感器(18),所述导气条(19)安装于气压传感器(18)的右侧。
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