[实用新型]真空磁控溅射镀膜设备除渣装置

摘要

本实用新型属于镀膜设备领域，涉及一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置。它解决了现有技术中除渣装置不能将溅射的废渣带出磁控溅射设备的技术问题。它包括溅射底板，以及嵌设在溅射底板中的传动滚轮，传动滚轮顶部延伸出溅射底板上表面，还包括除渣板，除渣板下表面设置有若干铲渣槽口，每个铲渣槽口连接有一个储渣腔室，铲渣槽口靠近储渣腔室的一侧设置有铲渣刮刀。与现有的技术相比，本实用新型有点在于，能方便地将高出于传动滚轮上表面的溅射废渣铲离溅射底板并带出溅射镀膜设备，从本质上解决溅射废渣划伤玻璃生表面的技术问题。

主权项

1.一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置，包括溅射底板(1)，以及嵌设在溅射底板(1)中的传动滚轮(2)，传动滚轮(2)顶部延伸出溅射底板(1)上表面，其特征在于，还包括除渣板(3)，所述的除渣板(3)下表面设置有若干铲渣槽口(4)，每个铲渣槽口(4)连接有一个储渣腔室(5)，所述的铲渣槽口(4)靠近储渣腔室(5)的一侧设置有铲渣刮刀(6)。