[实用新型]成膜装置有效
申请号: | 201820816534.5 | 申请日: | 2018-05-29 |
公开(公告)号: | CN208517517U | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 石野俊树;相泽雄树 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张宝荣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本实用新型提供一种成膜装置。该成膜装置具备:蒸镀源,用于使蒸镀材料蒸发;和防附着板,包括本体部,所述本体部覆盖在所述蒸镀源的上方并具有开口部,所述开口部用于露出所述蒸镀源的至少一部分;其特征在于,所述防附着板还包括立壁,所述立壁自所述本体部向上立起。根据该实用新型,能够利用防附着板的立壁来防止蒸镀材料的颗粒落到蒸镀源的坩埚中而污染坩埚中的蒸镀材料。 | ||
搜索关键词: | 蒸镀源 成膜装置 防附着板 蒸镀材料 立壁 开口部 坩埚 本实用新型 立起 蒸发 覆盖 污染 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置(2),具备:蒸镀源(23),用于使蒸镀材料蒸发;和防附着板(25),包括本体部(31),所述本体部(31)覆盖在所述蒸镀源(23)的上方并具有开口部(311),所述开口部(311)用于露出所述蒸镀源(23)的至少一部分;其特征在于,所述防附着板(25)还包括立壁(30),所述立壁(30)自所述本体部(31)向上立起。
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