[实用新型]单双面研磨抛光机有效

专利信息
申请号: 201820856294.1 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN208514310U 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 曹建平;曹培福;曾正平 申请(专利权)人: 湖南省新化县鑫星电子陶瓷有限责任公司
主分类号: B24B37/08 分类号: B24B37/08;B24B37/10;B24B37/34;B24B37/12
代理公司: 北京开林佰兴专利代理事务所(普通合伙) 11692 代理人: 刘帅帅
地址: 417600 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型涉及一种单双面研磨抛光机,在现有的单面研磨抛光机的基础上增加辅助抛光装置,使得现有的单面研磨抛光研磨机具备双面抛光的功能,因而无需增加新的双面研磨平抛光机即可实现双面抛光的目的。
搜索关键词: 双面研磨抛光机 单面研磨 双面抛光 抛光机 本实用新型 抛光研磨机 抛光装置 双面研磨
【主权项】:
1.一种单双面研磨抛光机,包括:工作台,所述工作台上开设有工作空间,所述工作空间内的底部铺设有下抛光盘,所述工作空间内设有太阳轮和内齿,所述工作空间为圆柱状,所述内齿为环形,所述内齿的外圈与所述工作空间的侧壁相配合,所述太阳轮的轴线、所述内齿的轴线和所述工作空间的轴线位于同一条直线上,所述太阳轮的侧面上设有连续的齿,所述内齿的内侧也设有连续的齿,还包括3个游星轮,3个所述游星轮均位于所述工作空间内,3个所述游星轮绕所述太阳轮均匀分布,且每个所述游星轮的外侧同时与所述太阳轮和所述内齿啮合,所述游星轮的横截面为圆环形,所述游星轮的中部区域为抛光空间;其特征在于:所述工作台上还设有辅助抛光装置,所述辅助抛光装置包括转动支架,所述转动支架的一端铰接在所述工作台上,所述转动支架的另一端连接有上抛光盘,所述上抛光盘具有两个工位,分别为第一工位和第二工位,第一工位:所述上抛光盘水平设置,且所述上抛光盘位于所述游星轮运动轨迹的正上方;第二工位:所述上抛光盘竖直设置,且所述上抛光盘位于所述工作空间的外侧;所述转动支架带动所述上抛光盘在所述第一工位和所述第二工位之间切换,在所述上抛光盘位于第一工位时,所述上抛光盘与所述下抛光盘之间形成的间隔与陶瓷产品的高度相适应。
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