[实用新型]一种新型的抗电磁辐射光学薄膜屏蔽结构有效
| 申请号： | 201820926754.3 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN208724321U | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 黄宗义;蒋华梁;辛似波;王曙;冯金宝 | 申请（专利权）人： | 常州第二电子仪器有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 李猛 |
| 地址： | 213015*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种新型的抗电磁辐射光学薄膜屏蔽结构，包括：在容易造成电磁侵入的光学窗口镜片上涂覆有氧化铟锡薄膜层，氧化铟锡薄膜层的厚度为160‑170nm。通过上述方式，本实用新型能够抵御外来的电磁干扰，能够抗50000V电磁脉冲，从而符合GJB1389A‑2005系统电磁兼容性要求。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化铟锡薄膜 本实用新型 抗电磁辐射 光学薄膜 屏蔽结构 电磁干扰 电磁脉冲 光学窗口 系统电磁 兼容性 侵入的 镜片 涂覆 | ||
【主权项】：
1.一种新型的抗电磁辐射光学薄膜屏蔽结构，其特征在于，包括：在容易造成电磁侵入的光学窗口镜片上涂覆有氧化铟锡薄膜层，氧化铟锡薄膜层的厚度为160‑170nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州第二电子仪器有限公司，未经常州第二电子仪器有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820926754.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电机控制器的冷却装置
- 下一篇：一种全封闭屏蔽装置
