[实用新型]浸没式光刻机有效
| 申请号： | 201820936597.4 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN208444132U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 骆建钢;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种能够有效去除透射图像传感器表面光刻胶污染的浸没式光刻机，所述浸没式光刻机包括透射图像传感器，所述透射图像传感器的设置位置令其在曝光过程中与晶圆一同被浸没在液体中，所述浸没式光刻机具有用于清洁所述透射图像传感器的清洁装置，所述清洁装置包括：光照部，向所述透射图像传感器表面照射光线，以使所述透射图像传感器表面的光刻胶污染物分解；清洗部，向所述透射图像传感器表面提供清洗液，对其进行清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 透射图像传感器 浸没式光刻机 清洁装置 清洗 本实用新型 浸没式光刻 污染物分解 表面照射 曝光过程 设置位置 光刻胶 清洗液 浸没 晶圆 机具 去除 光照 清洁 污染 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻机，包括透射图像传感器，所述透射图像传感器的设置位置令其在曝光过程中与晶圆一同被浸没在液体中，其特征在于，所述浸没式光刻机具有用于清洁所述透射图像传感器的清洁装置，所述清洁装置包括：光照部，向所述透射图像传感器表面照射光线，以使所述透射图像传感器表面的光刻胶污染物分解；清洗部，向所述透射图像传感器表面提供清洗液，对其进行清洗。
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