[实用新型]半导体晶元超音波清洗设备有效
| 申请号： | 201820953554.7 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN208427464U | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 徐恒军;袁丹;郑代祥 | 申请（专利权）人： | 苏州普洛泰科精密工业有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 苏州唯亚智冠知识产权代理有限公司 32289 | 代理人： | 张翠茹 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体晶元超音波清洗设备，包括机架，所述机架内设置有超声波清洗单元，所述超声波清洗单元由超声波清洗槽、超声波发生器及超声波振板构成，所述超声波清洗槽设置在机架的右侧，所述超声波发生器设置在机架的左侧，所述超声波振板设置在超声波清洗槽的下端，并与超声波发生器配合于超声波清洗槽设置，所述机架内设置有手动冲洗台，所述手动冲洗台位于超声波发生器的上方设置有，所述机架上设置有电气控制箱，所述超声波清洗槽上设置有进水阀和排水阀，与电气控制箱相电连，所述手动冲洗台的侧边上设置有水枪装置和气枪装置，与手动冲洗台内产品相配合设置。本实用新型能同时对多个产品进行清洗，提高生产的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 超声波清洗槽 超声波发生器 手动冲洗 超声波清洗单元 本实用新型 超声波振板 电气控制箱 清洗设备 超音波 晶元 半导体 配合设置 气枪装置 水枪装置 进水阀 排水阀 电连 下端 清洗 配合 生产 | ||
【主权项】：
1.半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)内设置有超声波清洗单元(2)，所述超声波清洗单元(2)由超声波清洗槽(22)、超声波发生器(21)及超声波振板(23)构成，所述超声波清洗槽(22)设置在机架(1)的右侧，所述超声波发生器(21)设置在机架(1)的左侧，所述超声波振板(23)设置在超声波清洗槽(22)的下端，并与超声波发生器(21)配合于超声波清洗槽(22)设置，所述机架(1)内设置有手动冲洗台(5)，所述手动冲洗台(5)位于超声波发生器(21)的上方设置有，所述机架(1)上设置有电气控制箱(6)，所述超声波清洗槽(22)上设置有进水阀(3)和排水阀(4)，与电气控制箱(6)相电连，所述手动冲洗台(5)的侧边上设置有水枪装置(9)和气枪装置(10)，与手动冲洗台(5)内产品相配合设置。
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