[实用新型]刻蚀槽进槽端水膜处爬坡式滚轮结构

摘要

本实用新型提供一种刻蚀槽进槽端水膜处爬坡式滚轮结构，包括机架以及设于机架上的多个输送组件，多个输送组件沿硅片输送方向依次设置，输送组件包括第一滚轮、第二滚轮和第三滚轮，第一滚轮、第二滚轮和第三滚轮均与机架转动连接，第一滚轮、第二滚轮和第三滚轮上传动连接有电机，第一滚轮、第二滚轮和第三滚轮轴线平行，第一滚轮和第三滚轮高度相同，第二滚轮设于第一滚轮和第三滚轮之间且第二滚轮略高于所述第一滚轮和第三滚轮。本实用新型提供的一种刻蚀槽进槽端水膜处爬坡式滚轮结构，在进槽端水膜处采用“爬坡式”滚轮结构，同时减少水膜的出水量，使水膜铺满硅片扩散面上的同时，药液被水稀释的非常少且避免过刻产生，降低药液耗用。

主权项

1.一种刻蚀槽进槽端水膜处爬坡式滚轮结构，其特征在于：包括机架(1)以及设于机架(1)上的多个输送组件，多个所述输送组件沿硅片输送方向依次设置，所述输送组件包括第一滚轮(2)、第二滚轮(3)和第三滚轮(4)，所述第一滚轮(2)、第二滚轮(3)和第三滚轮(4)均与所述机架(1)转动连接，所述第一滚轮(2)、第二滚轮(3)和第三滚轮(4)上传动连接有电机，所述第一滚轮(2)、第二滚轮(3)和第三滚轮(4)轴线平行，所述第一滚轮(2)和第三滚轮(4)高度相同，所述第二滚轮(3)设于所述第一滚轮(2)和第三滚轮(4)之间且所述第二滚轮(3)略高于所述第一滚轮(2)和第三滚轮(4)。