[实用新型]一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备

摘要

本实用新型公开了一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，本实用新型包括外壳、集液槽、储液箱、第一输送泵、加热器、流量控制阀和控制器，外壳的内部安装有分隔板，分隔板的左侧安装有导流板，导流板上安装有放置板，导流板的下部安装有集液槽，集液槽的下部安装有进液管，进液管的下端安装在储液箱的上部，储液箱的右侧安装有输液管，输液管上安装有第一输送泵。本实用新型提供了一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，通过设置的外壳、集液槽、储液箱、第一输送泵、加热器、流量控制阀和控制器，解决了清洗液容易冷却，不便于对半导体进行清洗，且不便于控制清洗液的出液量的问题。

主权项

1.一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，包括外壳(1)、集液槽(6)、储液箱(9)、第一输送泵(11)、加热器(14)、流量控制阀(19)和控制器(21)，其特征在于：所述外壳(1)的内部安装有分隔板(2)，所述分隔板(2)的左侧安装有导流板(3)；所述导流板(3)上安装有放置板(4)，所述导流板(3)的下部安装有集液槽(6)，所述集液槽(6)的下部安装有进液管(8)，所述进液管(8)的下端安装在储液箱(9)的上部；所述储液箱(9)的右侧安装有输液管(10)，所述输液管(10)上安装有第一输送泵(11)，所述第一输送泵(11)通过固定座(17)固定在外壳(1)上，所述输液管(10)上安装有检测管(13)，所述输液管(10)通过管道固定座(12)固定在分隔板(2)上，所述输液管(10)的上端安装在加热器(14)上；所述加热器(14)的左侧安装有出液管(15)，所述出液管(15)上安装有第二输送泵(16)，所述出液管(15)的下端安装有喷头(20)，所述出液管(15)上安装有流量控制阀(19)，所述外壳(1)的右侧内壁上安装有控制器(21)。