[实用新型]一种用于半导体基板化学液处理的样品架有效
| 申请号： | 201821033553.7 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN208570560U | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 郭逦达;叶亚宽;杨立红 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 102600 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请属于半导体基板的表面处理领域，涉及一种用于半导体基板化学液处理的样品架，该样品架，包括：主体，其包括对称设置的、与底部所在水平面角度相等的第一侧面和第二侧面，第一侧面和第二侧面均包括四边形框架和多条竖向杆；底部，其包括稳固装置。该样品架构造合理，易于操作，可同时容纳多个圆形或方形样片，其中，样片可以是垂直放置在竖向杆之间、水平或倾斜卡在竖向杆的横向凹槽上。该样品架用料节省且牢固；能够极大地提高样品清洗或处理的过程，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 样品架 半导体基板 竖向杆 侧面 化学液 表面处理领域 四边形框架 垂直放置 对称设置 横向凹槽 生产效率 稳固装置 样品清洗 用料 相等 容纳 申请 | ||
【主权项】：
1.一种用于半导体基板化学液处理的样品架，其特征在于，所述样品架包括：主体，所述主体包括对称设置的且与底部所在水平面角度相等的第一侧面和第二侧面，所述第一侧面和第二侧面均包括四边形框架和多条竖向杆；和底部，所述底部包括稳固装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
