[实用新型]取像装置有效

专利信息
申请号: 201821036419.2 申请日: 2018-07-02
公开(公告)号: CN208314806U 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 钟炜竣;巫仁杰 申请(专利权)人: 金佶科技股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 深圳市金笔知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44297 代理人: 赵南阳;胡清方
地址: 中国台湾新竹市东区(*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种取像装置,取像装置包括影像撷取元件及空间滤波器。影像撷取元件具有多个像素区。空间滤波器设置在影像撷取元件上,其中空间滤波器包括多个透光基材以及多个遮光结构。多个遮光结构与透光基材沿第一方向交替排列,其中每一遮光结构至少包括一吸光层,具有分别对应像素区的多个第一开口。多个遮光结构的至少一遮光结构包括相堆栈的反射层及吸光层。反射层具有多个第二开口,分别重叠于至少一遮光结构的吸光层的多个第一开口。反射层的每一第二开口在第二方向上具有宽度W2,吸光层的每一第一开口在第二方向上具有宽度W1。
搜索关键词: 遮光结构 吸光层 开口 影像撷取元件 空间滤波器 取像装置 反射层 透光基材 像素区 交替排列 堆栈
【主权项】:
1.一种取像装置,其特征在于,包括:一影像撷取元件,具有多个像素区;以及一空间滤波器,设置于所述影像撷取元件上,其中所述空间滤波器包括:多个透光基材;以及多个遮光结构,与多个所述透光基材沿一第一方向交替排列,其中每一所述遮光结构至少包括一吸光层,具有分别对应多个像素区的多个第一开口;多个所述遮光结构的至少一所述遮光结构包括相堆栈的一反射层及一所述吸光层,所述反射层具有多个第二开口,分别重叠于至少一所述遮光结构的所述吸光层的多个第一开口,所述反射层的每一所述第二开口在一第二方向上具有一宽度W2,所述吸光层的每一所述第一开口在所述第二方向上具有一宽度W1。
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