[实用新型]研磨设备有效
申请号: | 201821065526.8 | 申请日: | 2018-07-06 |
公开(公告)号: | CN208528801U | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 吴政惠;简俊贤;徐德义;林伯诚;陈富扬 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/20 | 分类号: | B24B37/20;B24B37/005;B24B37/34;B24B57/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 吴志红;臧建明 |
地址: | 中国台湾桃园市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型提供一种研磨设备,适于对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。研磨设备包括上定盘、下定盘、研磨垫、研磨液收集盆、金属检测器以及控制器。上定盘位于下定盘的上方。研磨垫配置于下定盘或上定盘的其中之一上。研磨液收集盆位于下定盘的下方,且研磨液收集盆适于收集从下定盘流出的研磨液。金属检测器连接于研磨液收集盆,且金属检测器适于检测研磨液收集盆的研磨液的金属浓度。控制器电性连接于下定盘、上定盘以及金属检测器。 | ||
搜索关键词: | 研磨液 下定盘 收集盆 金属检测器 上定盘 研磨设备 研磨垫 本实用新型 控制器电性 绝缘底材 控制器 研磨 金属层 流出 金属 检测 覆盖 配置 | ||
【主权项】:
1.一种研磨设备,其特征在于,适于对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序,所述研磨设备包括:下定盘;上定盘,位于所述下定盘的上方;研磨垫,配置于所述下定盘或所述上定盘的其中之一上;研磨液收集盆,位于所述下定盘的下方,且所述研磨液收集盆适于收集从所述下定盘流出的研磨液;金属检测器,连接于所述研磨液收集盆,且所述金属检测器适于检测所述研磨液收集盆的所述研磨液的金属浓度;以及控制器,电性连接于所述下定盘、所述上定盘以及所述金属检测器。
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