[实用新型]一种可提高靶材利用率的平面靶

摘要

一种可提高靶材利用率的平面靶，解决现有掺金镀膜技术存在的靶材利用率低，加工成本高，原材料浪费严重的问题。包括磁控靶体，其特征在于：磁控靶体上设置的偏心卡槽内设置有永磁体；磁控靶体偏心卡槽的开口侧、永磁体的前方，设置有分体组装式的溅射靶材；溅射靶材由中部靶材构成，中部靶材的上端设置有上端靶材，中部靶材的下端设置有下端靶材，上端靶材和下端靶材通过靶材固定框与中部靶材连为一体；分体组装式溅射靶材的前侧设置有固定压框。其设计合理，结构紧凑，利用偏心式布置的永磁体和分体组装式结构的溅射靶材，有效提高了溅射靶材的利用率，显著降低掺金镀膜的成本。

主权项

1.一种可提高靶材利用率的平面靶，包括磁控靶体（1），其特征在于：所述磁控靶体（1）上设置有偏心卡槽（2），偏心卡槽（2）内设置有用于产生束缚磁场的永磁体（3）；磁控靶体（1）偏心卡槽（2）的开口侧、永磁体（3）的前方设置有溅射靶材（7）；所述溅射靶材（7）为分体组装式结构，溅射靶材（7）由中部靶材（12）构成，中部靶材（12）的上端设置有上端靶材（11），中部靶材（12）的下端设置有下端靶材（13），且上端靶材（11）和下端靶材（13）通过靶材固定框（6）与中部靶材（12）拼接成一体；分体组装式溅射靶材（7）的前侧设置有固定压框（9）。