[实用新型]刻划轮有效
| 申请号： | 201821124816.5 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN208649130U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 岩坪佑磨;富本博之;木山直哉;泉本聪也;小森正雄;饭泽一马 | 申请（专利权）人： | 三星钻石工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B33/10 | 分类号： | C03B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 肖茂深 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型的目的在于提供一种能够在基板上更深且更好地形成垂直裂纹的刻划轮。刻划轮(100)具备：多个刃部(101)，它们沿着刻划轮的外周缘形成；以及多个槽部(102)，它们设置于周向上相邻的刃部(101)之间，且向中心轴(L0)侧凹陷。在槽部(102)中，在沿着与中心轴(L0)平行的方向观察时，相对于最深部而位于周向的两侧的部分形成为向远离中心轴(L0)的方向凸出的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 刻划轮 中心轴 槽部 刃部 本实用新型 垂直裂纹 方向观察 凸出的 外周缘 凹陷 基板 深部 平行 | ||
【主权项】：
1.一种刻划轮，其用于在基板上形成刻划线，其特征在于，所述刻划轮具备：多个刃部，它们沿着所述刻划轮的外周缘形成；以及多个槽部，它们设置于周向上相邻的所述刃部之间，且向中心轴侧凹陷，在所述槽部中，在沿着与所述中心轴平行的方向观察时，相对于最深部而位于所述周向的两侧的部分形成为向远离所述中心轴的方向凸出的形状。
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