[实用新型]一种动密封结构及采用该结构的磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201821156734.9 | 申请日： | 2018-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN209340504U | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;汪振南;雷绍温;杨永雷;见东伟;张伟;邬英;刘福山;韩晓琳 | 申请（专利权）人： | 山西米亚索乐装备科技有限公司 |
| 主分类号： | F16J15/24 | 分类号： | F16J15/24 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 陈庆超;桑传标 |
| 地址： | 037000 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 一种动密封结构，涉及磁控溅射技术领域。动密封结构用于将磁控溅射旋转靶的旋转法兰(1)和靶芯连接轴(2)之间的空隙密封。动密封结构包括径向密封件(3)和轴向密封圈(4)，径向密封件(3)包括与旋转法兰(1)配合的密封套筒(31)，密封套筒(31)后方设有顶压机构(32)，顶压机构(32)将密封套筒(31)顶压到旋转法兰(1)上，使旋转法兰(1)与密封套筒(31)配构成端面密封结构；轴向密封圈(4)设置在密封套筒(31)与靶芯连接轴(2)之间，将靶芯连接轴(2)与密封套筒(31)之间的空隙密封。本实用新型在适应了磁控溅射旋转靶的旋转运动的应用场景的同时防止了冷却介质(0)的泄漏，密封效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 密封套筒 动密封结构 旋转法兰 连接轴 靶芯 径向密封件 轴向密封圈 磁控溅射 顶压机构 空隙密封 旋转靶 磁控溅射技术 磁控溅射设备 端面密封结构 本实用新型 密封效果好 冷却介质 应用场景 顶压 泄漏 配合 | ||
【主权项】：
1.一种动密封结构，用于将磁控溅射旋转靶的旋转法兰(1)和靶芯连接轴(2)之间的空隙密封，其特征在于，包括径向密封件(3)和轴向密封圈(4)，所述径向密封件(3)包括与所述旋转法兰(1)配合的密封套筒(31)，所述密封套筒(31)后方设有顶压机构(32)，所述顶压机构(32)将所述密封套筒(31)顶压到所述旋转法兰(1)上，使所述旋转法兰(1)与所述密封套筒(31)配构成端面密封结构；所述轴向密封圈(4)设置在所述密封套筒(31)与所述靶芯连接轴(2)之间，将靶芯连接轴(2)与密封套筒(31)之间的空隙密封。
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