[实用新型]磁控溅射/微波表面波沉积系统有效
| 申请号： | 201821185017.9 | 申请日： | 2018-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN208667834U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 唐诗琪;高凯雄;张斌;刘睿峰;唐迎春 | 申请（专利权）人： | 衡阳舜达精工科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 421007 湖南省衡*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开的磁控溅射/微波表面波沉积系统，包括一真空腔室，在真空腔室的四周设置有若干组磁控溅射阴极，真空腔室通过一抽气管道连接一真空泵组并还通过一进气管道连接一流量计组，在真空腔室内设置有一工件架，其在真空腔室的中心设置有一微波表面波石英管/电极组件，工件架环绕在微波表面波石英管/电极组件的外围。本实用新型的优点在于集成了磁控溅射的高光洁度和微波表面波系统的高离化率。其中当微波表面波系统单独工作时，可以配合偏压实现清洗和镀膜。和磁控溅射同时工作时，可以实现反应气体的预离化，在较小的反应气体下实现较高成分的复合薄膜，有效防止发生靶中毒。也可以通过设定微波表面波序列变化实现多层膜和梯度膜调制。 | ||
| 搜索关键词： | 微波表面波 磁控溅射 真空腔室 本实用新型 沉积系统 电极组件 反应气体 工件架 石英管 离化 磁控溅射阴极 抽气管道 复合薄膜 高光洁度 进气管道 流量计组 序列变化 真空泵组 中心设置 靶中毒 多层膜 梯度膜 真空腔 镀膜 调制 清洗 环绕 外围 室内 配合 | ||
【主权项】：
1.磁控溅射/微波表面波沉积系统，包括一真空腔室，在所述真空腔室的四周设置有若干组磁控溅射阴极，所述真空腔室通过一抽气管道连接一真空泵组并还通过一进气管道连接一流量计组，在所述真空腔室内设置有一工件架，其特征在于，在所述真空腔室的中心设置有一微波表面波石英管/电极组件，所述工件架环绕在所述微波表面波石英管/电极组件的外围。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于衡阳舜达精工科技有限公司，未经衡阳舜达精工科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821185017.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种金属溅射系统中的阻隔式控制装置
- 下一篇：一种磁控溅射阴极磁场布置结构
- 同类专利
- 专利分类
