[实用新型]低剖面去耦栅结构的波导平板阵列天线有效

专利信息
申请号: 201821189250.4 申请日: 2018-07-25
公开(公告)号: CN208608361U 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 张小磊;王孟 申请(专利权)人: 西安三维通信有限责任公司
主分类号: H01Q21/06 分类号: H01Q21/06;H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 闫家伟
地址: 710077 陕西省西安市高新区丈*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型提供了一种低剖面去耦栅结构的波导平板阵列天线,包括:辐射层(1)、耦合层(2)、馈电网络层(3);其中,所述辐射层(1)设置于所述耦合层(2)上方;所述馈电网络层(3)设置于所述耦合层(2)下方;所述辐射层(1)上设置有去耦栅(4)和辐射缝(5);所述去耦栅(4)位于相邻所述辐射缝(5)横向中心,减小相邻所述辐射缝(5)的互耦效应;所述去耦栅(4)为凹槽型结构。本实用新型提供的低剖面去耦栅结构的波导平板阵列天线,通过采用凹槽型结构的去耦栅,增加电磁波在去耦栅表面的绕射距离,实现去耦栅剖面的降低,从而降低天线整体的高度。
搜索关键词: 去耦 平板阵列天线 低剖面 辐射层 辐射缝 栅结构 耦合层 波导 凹槽型结构 本实用新型 馈电网络层 横向中心 天线整体 电磁波 栅表面 互耦 减小 绕射
【主权项】:
1.一种低剖面去耦栅结构的波导平板阵列天线,其特征在于,包括:辐射层(1)、耦合层(2)、馈电网络层(3);其中,所述辐射层(1)设置于所述耦合层(2)上方;所述馈电网络层(3)设置于所述耦合层(2)下方;所述辐射层(1)上设置有去耦栅(4)和辐射缝(5);所述去耦栅(4)位于相邻所述辐射缝(5)横向中心,以减小相邻所述辐射缝(5)的互耦效应;所述去耦栅(4)为凹槽型结构。
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