[实用新型]弹丸喷击区模拟装置有效
| 申请号： | 201821195572.X | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN208592734U | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 王程;卢鹄;陈保国;李国保;喻真真;赵褀旸 | 申请（专利权）人： | 中国商用飞机有限责任公司;上海飞机制造有限公司 |
| 主分类号： | B24C9/00 | 分类号： | B24C9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 200120 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及机加工技术领域，尤其涉及一种弹丸喷击区的模拟装置。一种弹丸喷击区的模拟装置，包括：光源；透镜，其与所述光源同轴设置，用于将光源的散射光聚集并将光直射在预喷丸零件表面；位置调节机构，其能够调节所述透镜与所述光源之间的位置，所述光源和所述透镜设置于所述位置调节机构上。本实用新型中采用光照射的方式模拟弹丸的喷射路径，验证是否存在干涉弹丸流、遮挡弹丸流的位置，大大节省了在试错实验过程中耗费的材料。同时，位置调节机构能够调节透镜和光源之间的距离，使得该装置能够模拟出不同尺寸的弹丸喷击区，适用于各种预喷丸零件的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 弹丸 透镜 位置调节机构 模拟装置 本实用新型 弹丸流 预喷 零件表面 喷射路径 实验过程 同轴设置 透镜设置 光照射 机加工 散射光 直射 遮挡 验证 干涉 | ||
【主权项】：
1.一种弹丸喷击区模拟装置，其特征在于，包括：光源(1)；透镜(2)，其与所述光源(1)同轴设置，用于将光源(1)的散射光聚集并将光直射在预喷丸零件表面；位置调节机构，其能够调节所述透镜(2)与所述光源(1)之间的位置，所述光源(1)和所述透镜(2)设置于所述位置调节机构上。
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