[实用新型]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201821206107.1 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN208767302U 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 河崎一茂 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型的实施方式提供能够小型化及低成本化的半导体装置。本实用新型的实施方式的半导体装置具备:基础部件;第1积层体,包含交替积层在与所述基础部件的表面交叉的第1方向的第1半导体芯片与第2半导体芯片;及第2积层体,在沿所述基础部件的所述表面的第2方向与所述第1积层体排列配置,且包含交替积层在所述第1方向的其他第1半导体芯片与其他第2半导体芯片。所述第1积层体包含与所述基础部件连接的最下层的第1半导体芯片,所述第2积层体包含与所述基础部件连接的最下层的第2半导体芯片。
搜索关键词: 半导体芯片 基础部件 积层体 半导体装置 本实用新型 交替积层 最下层 排列配置 低成本
【主权项】:
1.一种半导体装置,具备:基础部件;第1积层体,包含交替积层在与所述基础部件的表面交叉的第1方向的第1半导体芯片与第2半导体芯片;及第2积层体,在沿所述基础部件的所述表面的第2方向与所述第1积层体排列配置,且包含交替积层在所述第1方向的其他第1半导体芯片与其他第2半导体芯片;且所述第1积层体包含与所述基础部件连接的最下层的第1半导体芯片,所述第2积层体包含与所述基础部件连接的最下层的第2半导体芯片。
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