[实用新型]一种半导体可饱和吸收镜结构有效

专利信息
申请号: 201821213328.1 申请日: 2018-07-28
公开(公告)号: CN208508231U 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 梁崇智;黎海明;朱海波 申请(专利权)人: 广东华快光子科技有限公司;广东华奕激光技术有限公司
主分类号: H01S3/098 分类号: H01S3/098
代理公司: 中山市科创专利代理有限公司 44211 代理人: 谢自安
地址: 528400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种半导体可饱和吸收镜结构,本案可饱和吸收体采用8个量子阱结构,便于构成8个驻波周期,而每个量子阱采用AlGaAsP应变补偿层、GaAlAs透明层、InGaAs层、GaAlAs透明层、InGaAs层、GaAlAs透明层、AlGaAsP应变补偿层的对称设置结构,其便于使每个量子阱位于驻波的峰值位置和便于进行应变补偿,降低累积应力造成的形变,有利于提高SESAM的使用寿命,从而提高激光器寿命,降低激光器维护成本。
搜索关键词: 透明层 半导体可饱和吸收镜 应变补偿层 量子阱 驻波 可饱和吸收体 本实用新型 激光器寿命 量子阱结构 对称设置 峰值位置 使用寿命 应变补偿 激光器 形变 维护
【主权项】:
1.一种半导体可饱和吸收镜结构,其特征在于包括有n‑GaAs衬底,在所述n‑GaAs衬底上依次生长有24对布拉格反射镜、8个量子阱的可饱和吸收体,其中,每对布拉格反射镜的厚度为0.25λ,λ是设计波长,每个量子阱的厚度为0.5λ,每对布拉格反射镜包括有依次的GaAs子层和AlGaAs子层,GaAs子层的厚度≤AlGaAs子层的厚度,每个量子阱包括依次的AlGaAsP应变补偿层、GaAlAs透明层、InGaAs层、GaAlAs透明层、InGaAs层、GaAlAs透明层、AlGaAsP应变补偿层,其中,两个AlGaAsP应变补偿层的厚度相等,3个GaAlAs透明层的厚度相等,两个InGaAs层的厚度相等,并且,InGaAs层的厚度≤GaAlAs透明层的厚度≤AlGaAsP应变补偿层的厚度。
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