[实用新型]氮化镓晶体管有效
申请号: | 201821240867.4 | 申请日: | 2018-08-02 |
公开(公告)号: | CN208538864U | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 闻永祥;贾利芳;逯永建;李东昇 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/778;H01L21/335 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯;范芳茗 |
地址: | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种氮化镓晶体管。该氮化镓晶体管包括:衬底;氮化镓层,位于所述衬底上;势垒层,位于所述氮化镓层上;至少一个第二复合叠层,位于所述势垒层上;以及栅极电极、源极电极与漏极电极,位于所述势垒层上,并且所述栅极电极位于所述源极电极和所述漏极电极之间,其中,所述至少一个第二复合叠层包括堆叠的第二掺杂层和第二插入层,所述漏极电极的第一部分与至少一个所述第二掺杂层接触,所述漏极电极的第二部分与所述势垒层接触。该氮化镓晶体管中的第二复合叠层使氮化镓层处于导通状态,并在截止状态有效注入空穴,释放被捕获的电子,抑制晶体管动态导通电阻增大,增加动态电阻的稳定性,提高氮化镓晶体管的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 氮化镓晶体管 漏极电极 势垒层 氮化镓层 复合叠层 源极电极 栅极电极 掺杂层 衬底 空穴 导通电阻 导通状态 动态电阻 截止状态 插入层 晶体管 堆叠 释放 申请 | ||
【主权项】:
1.一种氮化镓晶体管,包括:衬底;氮化镓层,位于所述衬底上;势垒层,位于所述氮化镓层上;至少一个第二复合叠层,位于所述势垒层上;以及栅极电极、源极电极与漏极电极,位于所述势垒层上,并且所述栅极电极位于所述源极电极和所述漏极电极之间,其中,所述至少一个第二复合叠层包括堆叠的第二掺杂层和第二插入层,所述漏极电极的第一部分与至少一个所述第二掺杂层接触,所述漏极电极的第二部分与所述势垒层接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州士兰集成电路有限公司,未经杭州士兰集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821240867.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:像素、像素阵列以及成像系统
- 下一篇:半导体器件
- 同类专利
- 专利分类