[实用新型]氮化镓晶体管有效

专利信息
申请号: 201821240867.4 申请日: 2018-08-02
公开(公告)号: CN208538864U 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 闻永祥;贾利芳;逯永建;李东昇 申请(专利权)人: 杭州士兰集成电路有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/778;H01L21/335
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;范芳茗
地址: 310018 浙江省杭州市杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了一种氮化镓晶体管。该氮化镓晶体管包括:衬底;氮化镓层,位于所述衬底上;势垒层,位于所述氮化镓层上;至少一个第二复合叠层,位于所述势垒层上;以及栅极电极、源极电极与漏极电极,位于所述势垒层上,并且所述栅极电极位于所述源极电极和所述漏极电极之间,其中,所述至少一个第二复合叠层包括堆叠的第二掺杂层和第二插入层,所述漏极电极的第一部分与至少一个所述第二掺杂层接触,所述漏极电极的第二部分与所述势垒层接触。该氮化镓晶体管中的第二复合叠层使氮化镓层处于导通状态,并在截止状态有效注入空穴,释放被捕获的电子,抑制晶体管动态导通电阻增大,增加动态电阻的稳定性,提高氮化镓晶体管的可靠性。
搜索关键词: 氮化镓晶体管 漏极电极 势垒层 氮化镓层 复合叠层 源极电极 栅极电极 掺杂层 衬底 空穴 导通电阻 导通状态 动态电阻 截止状态 插入层 晶体管 堆叠 释放 申请
【主权项】:
1.一种氮化镓晶体管,包括:衬底;氮化镓层,位于所述衬底上;势垒层,位于所述氮化镓层上;至少一个第二复合叠层,位于所述势垒层上;以及栅极电极、源极电极与漏极电极,位于所述势垒层上,并且所述栅极电极位于所述源极电极和所述漏极电极之间,其中,所述至少一个第二复合叠层包括堆叠的第二掺杂层和第二插入层,所述漏极电极的第一部分与至少一个所述第二掺杂层接触,所述漏极电极的第二部分与所述势垒层接触。
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