[实用新型]一种化学气相沉积镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种化学气相沉积镀膜装置，包括依次连通的蒸发器、混合室和反应室；蒸发器上设有至少一个载气进口和前体进口，以分别向蒸发器中通入载气和前体；混合室和反应室均设有加热器，以对混合气体进行加热；反应室上部设有工艺气体进口，下部设有真空连接口，真空连接口用于连接真空发生装置；反应室底部开口，开口处设有凸缘，凸缘处设有一法兰盘，法兰盘通过一顶升装置顶升，以与凸缘配合封闭反应室；反应室中还设有一样品架，样品架包括样品台及固定于样品台下表面的升降杆，升降杆固定于法兰盘上。本实用新型的化学气相沉积镀膜装置，有利于提高反应的速率，加快镀膜的生成。

主权项

1.一种化学气相沉积镀膜装置，其特征在于，包括依次连通的蒸发器、混合室和反应室；所述蒸发器上设有至少一个载气进口和前体进口，以分别向蒸发器中通入载气和前体；所述混合室和反应室均设有加热器，以对混合气体进行加热；所述反应室室上部设有工艺气体进口，所述反应室的下部设有真空连接口，所述真空连接口用于连接真空发生装置；所述反应室底部开口，所述开口处设有凸缘，凸缘处设有一法兰盘，法兰盘通过一顶升装置顶升，以与所述凸缘配合封闭所述反应室；所述反应室中还设有一样品架，所述样品架包括样品台及固定于样品台下表面的升降杆，所述升降杆固定于所述法兰盘上。