[实用新型]量子点彩色滤光片的制作系统及掩模板有效
| 申请号： | 201821284597.7 | 申请日： | 2018-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN208547738U | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 汪红 | 申请（专利权）人： | 嘉兴纳鼎光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 叶蕙;王锋 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉兴市海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板，包括掩模板基体，所述基体上间隔分布有复数个沉积孔，每一沉积孔与至少一像素坑对应设置，其中至少两个相邻沉积孔之间为遮挡部，所述遮挡部具有凸起结构，凸起结构能够将沉积到遮挡部上的量子点墨水引流至相邻沉积孔内。本实用新型还公开一种量子点彩色滤光片的制作系统，包括雾化模块和掩模板，雾化模块其至少用于对量子点墨水进行雾化处理，并且雾化模块的雾化物输出方向朝向所述掩模板，掩模板掩盖在基板上，基板上分布有复数个像素坑。相较于现有技术，本实用新型利用量子点墨水实现像素化制作，利用量子点墨水雾化沉积，与掩模板配合实现QDCF像素化，像素高达1000PPI。 | ||
| 搜索关键词： | 量子点 掩模板 沉积 本实用新型 彩色滤光片 雾化模块 像素 墨水 遮挡 凸起结构 制作系统 像素化 复数 基板 引流 间隔分布 输出方向 雾化处理 水雾化 雾化物 制备 掩盖 制作 配合 应用 | ||
【主权项】：
1.一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板，包括掩模板基体，其特征在于：所述基体上间隔分布有复数个沉积孔，每一沉积孔与至少一像素坑对应设置，其中至少两个相邻沉积孔之间为遮挡部，所述遮挡部具有凸起结构，所述凸起结构能够将沉积到遮挡部上的量子点墨水引流至相邻沉积孔内。
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