[实用新型]等离子表面处理装置有效
| 申请号： | 201821366313.9 | 申请日： | 2018-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN209250932U | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 陈钟辉 | 申请（专利权）人： | 广州视源电子科技股份有限公司;广州视睿电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/48 | 分类号： | H05H1/48 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐利 |
| 地址： | 510530 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种等离子表面处理装置，包括壳体、电离件及喷嘴。壳体上形成有电离腔；电离件设置于电离腔内。喷嘴包括传输部，传输部连接于壳体上，传输部上形成有多条气道。在使用时，将喷嘴与壳体相连接，使得气道与电离腔相连通。通过电离件对电离气体进行电离，使得电离气体在电离腔内形成等离子。等离子由电离腔均匀进入到气道内，并通过气道喷出。多个气道并列设置，且至少一条气道沿并列方向的尺寸向远离电离腔的方向趋于增大，使得喷射到物体表面的等离子面积尺寸变宽。当处理较宽的表面时，只需要使得等离子表面处理装置相对于待处理表面移动即可，有效缩短表面处理时间，提高处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 电离腔 气道 电离 等离子表面处理装置 壳体 喷嘴 等离子 传输部 电离气体 本实用新型 待处理表面 并列设置 处理效率 物体表面 变宽 喷出 喷射 并列 移动 | ||
【主权项】：
1.一种等离子表面处理装置，其特征在于，包括：壳体，形成有电离腔；电离件，设置于所述电离腔内；及喷嘴，包括传输部，所述传输部连接于所述壳体上，所述传输部上形成有多条并列设置的气道，所述气道与所述电离腔相连通；向远离所述电离腔的方向，至少一条所述气道沿并列方向的尺寸趋于增大。
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