[实用新型]一种高浪涌电流能力碳化硅二极管有效

专利信息
申请号: 201821397084.7 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN208608203U 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 朱袁正;周锦程;杨卓;叶鹏 申请(专利权)人: 无锡新洁能股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L21/04
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型属于半导体器件的制造技术领域,涉及一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,包括N型碳化硅衬底及N型碳化硅外延层,在碳化硅外延层内的上部设有若干个P型阱区,在P型阱区下方或下表面设有N型高阻区,在P型阱区内设有多个沟槽,位于边缘的沟槽与碳化硅外延层邻接,且沟槽从半导体基板的上表面穿过P型阱区延伸到N型高阻区内或依次穿过P型阱区、N型高阻区延伸到N型碳化硅外延层内;本实用新型通过设置N型高阻区,并在P型阱区内设有多个沟槽,使得器件在正常导通工作状态下,大幅增加了器件的浪涌电流能力。
搜索关键词: 浪涌电流 高阻区 碳化硅二极管 碳化硅外延层 本实用新型 外延层 穿过 导通工作状态 半导体基板 半导体器件 上表面 下表面 邻接 延伸 衬底 高阻 制造
【主权项】:
1.一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,包括半导体基板,所述半导体基板包括N型碳化硅衬底及位于N型碳化硅衬底上的N型碳化硅外延层,在所述N型碳化硅外延层内的上部设有若干个P型阱区,其特征在于,在所述P型阱区下方或下表面设有N型高阻区,在P型阱区内设有多个沟槽,位于P型阱区边缘的沟槽与N型碳化硅外延层邻接,且沟槽从半导体基板的上表面穿过P型阱区延伸到N型高阻区内或依次穿过P型阱区、N型高阻区延伸到N型碳化硅外延层内,所述沟槽内填充有绝缘介质层。
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