[实用新型]柔性基板双面曝光机有效
申请号: | 201821429108.2 | 申请日: | 2018-09-03 |
公开(公告)号: | CN208969427U | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 余燕青;陶伟荣 | 申请(专利权)人: | 东莞市友辉光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 东莞市创益专利事务所 44249 | 代理人: | 许彬 |
地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及柔性基板双面曝光机,机座上设有用于柔性基板第一面曝光的第一曝光平台及用于柔性基板第二面曝光的第二曝光平台,第一曝光平台的曝光位上配备可对位调整的第一曝光铬版,第二曝光平台的曝光位上配备可对位调整的第二曝光铬版;第一曝光平台和第二曝光平台各自往返于曝光位和上料位;机座上设有上料平台和下料平台;机座上还设有衔接第一曝光平台出料和第二曝光平台上料的翻面组件。本实用新型可实现第一曝光平台和第二曝光平台连续性作业,达到柔性基板双面自动转换曝光,提高产能,结构简单,双面对位准确,操作简便,提升曝光机的功效。 | ||
搜索关键词: | 曝光平台 柔性基板 曝光 机座 本实用新型 双面曝光机 对位调整 铬版 连续性作业 翻面组件 上料平台 下料平台 自动转换 配备 第二面 曝光机 上料位 产能 出料 上料 往返 衔接 | ||
【主权项】:
1.柔性基板双面曝光机,具有机座(1),其特征在于:所述机座(1)上设有用于柔性基板第一面曝光的第一曝光平台(2)及用于柔性基板第二面曝光的第二曝光平台(3),第一曝光平台(2)的曝光位上配备可对位调整的第一曝光铬版(4),第二曝光平台(3)的曝光位上配备可对位调整的第二曝光铬版(5);所述第一曝光平台(2)和第二曝光平台(3)各自往返于曝光位和待料位;所述机座(1)上设有上料平台(10)和下料平台(11);所述机座(1)上还设有衔接第一曝光平台(2)出料和第二曝光平台(3)上料的翻面组件(6);所述机座(1)设有第一机械手(7)和第二机械手(8),负责移载柔性基板的进出料。
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