[实用新型]半导体存储器有效

专利信息
申请号: 201821449201.X 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN208655642U 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 朱梦娜 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种半导体存储器。半导体存储器中其有源区的端部中形成有第二掺杂区,从而使位线能够从有源区的端部连接第二掺杂区,并且可以实现位线掩埋于衬底中并利用沟槽隔离结构隔离相邻的位线,从而可改善相邻的位线之间发生电容耦合的现象;同时,使位线掩埋在衬底中,相应的可缓解位线与形成在衬底之上的字线之间的寄生电容,进而提高半导体存储器的器件性能。此外,可同时制备存储阵列区中字线和周边晶体管的栅极导电层,节省工艺流程。
搜索关键词: 位线 半导体存储器 衬底 掺杂区 源区 字线 掩埋 沟槽隔离结构 本实用新型 存储阵列区 栅极导电层 周边晶体管 电容耦合 端部连接 寄生电容 器件性能 工艺流程 制备 隔离 缓解
【主权项】:
1.一种半导体存储器,其特征在于,包括:衬底,所述衬底中形成有沟槽隔离结构,并界定出多个有源区,所述有源区包括沿着第一方向延伸的第一延伸区和沿着第二方向延伸的第二延伸区,所述第一延伸区和所述第二延伸区的端部相互连接并构成一连接区,并且在所述第一延伸区远离所述连接区的衬底中形成有第一掺杂区,以及在所述第二延伸区远离所述连接区的衬底中形成有第二掺杂区;多条位线,形成在所述衬底中并沿着所述第一方向延伸,并且所述位线至少部分形成在所述沟槽隔离结构中,并在垂直于位线延伸方向上还从所述沟槽隔离结构中横向扩展至所述第二延伸区,以使所述位线与所述第二掺杂区电性连接;以及,多条字线,形成在所述衬底上并沿着所述第二方向延伸,所述字线覆盖所述有源区的所述连接区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821449201.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top