[实用新型]电可擦除可编程非易失性存储器器件和电子设备有效

专利信息
申请号: 201821457692.2 申请日: 2018-09-06
公开(公告)号: CN208752963U 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: F·塔耶 申请(专利权)人: 意法半导体(鲁塞)公司
主分类号: G11C16/10 分类号: G11C16/10;G11C16/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;张曦
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 一种电可擦除可编程非易失性存储器器件包括布置在存储器平面中的存储器单元。每个存储器单元包括与状态晶体管串联的访问晶体管。每个访问晶体管经由其源极区域耦合到对应的源极线,并且每个状态晶体管经由其漏极区域耦合到对应的位线。每个状态晶体管的浮置栅极倚靠在具有第一部分和第二部分的介电层上,第一部分具有第一厚度,第二部分具有小于第一厚度的第二厚度。第二部分位于状态晶体管的源极侧。
搜索关键词: 晶体管 电可擦除可编程非易失性存储器 存储器单元 耦合到 存储器平面 晶体管串联 电子设备 浮置栅极 漏极区域 源极区域 倚靠 介电层 源极线 位线 源极 访问
【主权项】:
1.一种电可擦除可编程非易失性存储器器件,在半导体衬底的表面处形成,其特征在于,所述存储器器件包括:多个位线;多个源极线;以及存储器平面,包括多个存储器单元,每个存储器单元包括具有源极区域、漏极区域、控制栅极和浮置栅极的状态晶体管,每个存储器单元还包括具有源极区域、漏极区域和栅极的访问晶体管;其中每个访问晶体管的源极区域耦合到所述多个源极线中的源极线;其中所述访问晶体管的漏极区域和所述状态晶体管的源极区域是共同的;其中每个状态晶体管的漏极区域耦合到所述多个位线中的位线;并且其中每个存储器单元的浮置栅极覆盖介电层,所述介电层具有第一部分和第二部分,所述第一部分具有第一厚度,所述第二部分具有小于所述第一厚度的第二厚度,所述第二部分位于所述状态晶体管的源极区域侧。
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