[实用新型]一种化学气相沉积装置及其喷头有效
申请号: | 201821518082.9 | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN208829759U | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 吴天成 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型提供一种化学气相沉积装置及其喷头,喷头包括本体、喷射部及热交换机构。本体开设有进气通道,以供反应气体进入。喷射部设有多个喷嘴,喷嘴与进气通道连通,反应气体经由进气通道进入喷嘴,并被喷嘴喷出。热交换机构设置于本体和/或喷射部,热交换机构内具有冷却剂,能够使得喷头的温度降低。 | ||
搜索关键词: | 喷头 热交换 进气通道 喷嘴 喷射部 化学气相沉积装置 反应气体 冷却剂 本实用新型 机构设置 温度降低 喷嘴喷 连通 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积装置的喷头,其特征在于,包括:本体,开设有进气通道,以供反应气体进入;喷射部,设有多个喷嘴,喷嘴与进气通道连通,反应气体经由进气通道进入喷嘴,并被喷嘴喷出;及热交换机构,设置于本体和/或喷射部,热交换机构内具有冷却剂,能够使得喷头的温度降低。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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