[实用新型]化学机械研磨垫有效
| 申请号： | 201821519455.4 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN209110816U | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 王盼;蔡长益 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 董天宝;于宝庆 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种化学机械研磨垫，该化学机械研磨垫包括：基底及形成于所述基底上的研磨层，其中所述研磨层的表面具有：多个均匀有序分布的微突起结构；多个沟槽，形成于多个所述微突起结构之间；其中，所述研磨层表面的孔隙率为30％～50％。该研磨垫提高了化学机械研磨速率，降低了所处理晶圆的表面刮伤，并保证了研磨后晶圆间的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 化学机械研磨 研磨层 微突起 基底 晶圆 研磨 均一性 孔隙率 研磨垫 刮伤 保证 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨垫，包括：基底及形成于所述基底上的研磨层，其中所述研磨层的表面具有：多个均匀有序分布的微突起结构；多个沟槽，形成于多个所述微突起结构之间；其中，所述研磨层表面的孔隙率为30％～50％。
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