[实用新型]一种晶圆工作台清洁系统有效
| 申请号： | 201821544430.X | 申请日： | 2018-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN208737219U | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种晶圆工作台清洁系统，其中，晶圆工作台清洁系统包括：研磨块及清洗液喷头；研磨块位于晶圆工作台的上方，用以对晶圆工作台进行研磨，研磨块的研磨面与晶圆工作台平行设置，自研磨面向研磨块内部延伸包含至少一个研磨块通孔；清洗液喷头位于研磨块通孔内，与研磨块通孔的侧壁非接触，用以对所述晶圆工作台喷涂清洗液。本实用新型通过研磨块及清洗液喷头，可提高晶圆工作台的清洁效果及清洁效率；提高晶圆工作台的洁净度及平整度，从而提高产品质量；降低对晶圆工作台的损伤，延长晶圆工作台的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 晶圆工作台 清洗液喷头 清洁系统 通孔 本实用新型 圆工作台 种晶 内部延伸 平行设置 清洁效果 清洁效率 使用寿命 非接触 洁净度 平整度 清洗液 研磨面 喷涂 侧壁 损伤 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆工作台清洁系统，其特征在于，所述晶圆工作台清洁系统包括：研磨块，位于所述晶圆工作台的上方，用以对所述晶圆工作台进行研磨，所述研磨块的研磨面与所述晶圆工作台平行设置，自所述研磨面向所述研磨块内部延伸包含至少一个研磨块通孔；清洗液喷头，位于所述研磨块通孔内，与所述研磨块通孔的侧壁非接触，用以对所述晶圆工作台喷涂清洗液。
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