[实用新型]光阻旋涂装置有效
| 申请号： | 201821567138.X | 申请日： | 2018-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN209028410U | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 黄帅 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种光阻旋涂装置。光阻旋涂装置包括：旋转驱动装置；位于旋转驱动装置之上的晶圆托盘；以及位于晶圆托盘之上的盖板，盖板和晶圆托盘由旋转装置驱动转动。通过在内腔体和晶圆托盘之上设置盖板，在执行光阻旋涂工艺期间，在旋涂光阻层成膜的主旋转阶段前后，分别关闭和开启盖板，能够有效降低主旋转期间气流流动对光阻层的湍流影响，提高光阻层厚度的均匀性，提高生产率和降低制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆托盘 盖板 光阻 旋涂装置 旋转驱动装置 光阻层 主旋转 旋涂 本实用新型 气流流动 驱动转动 湍流影响 旋转装置 制造成本 均匀性 成膜 腔体 阻层 | ||
【主权项】：
1.一种光阻旋涂装置，其特征在于，包括：旋转驱动装置；位于所述旋转驱动装置上方的晶圆托盘；以及位于所述晶圆托盘之上的盖板，所述盖板和所述晶圆托盘由所述旋转驱动装置驱动转动。
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