[实用新型]真空室装置

摘要

本实用新型涉及一种真空室装置。真空室装置具有：真空室；至少一个处理区域，其布置在真空室中；以及用于在处理区域中输送和/或定位基板或多个基板的基板保持装置，其中基板保持装置包括：具有第一基板保持件的第一驱动机构，第一基板保持件被构造为可旋转地保持一个或多个基板；具有第一支撑臂的第二驱动机构，第一基板保持件由第一支撑臂可旋转地保持，具有第二基板保持件的第三驱动机构，其中第二基板保持件构造为可旋转地保持一个或多个基板；以及具有第二支撑臂的第四驱动机构，第二基板保持件由第二支撑臂可旋转地保持，并且其中第一、第二、第三和第四驱动机构各自被构造为能够被相互独立地控制。

主权项

1.一种真空室装置，其特征在于，具有：真空室；至少一个处理区域，其布置在所述真空室中；以及基板保持装置，其用于在所述处理区域中输送和/或定位基板或多个基板，其中所述基板保持装置包括：具有第一基板保持件的第一驱动机构，其中所述第一基板保持件被构造为可旋转地保持一个或多个基板；具有第一支撑臂的第二驱动机构，其中所述第一基板保持件由所述第一支撑臂可旋转地保持；具有第二基板保持件的第三驱动机构，其中所述第二基板保持件被构造为可旋转地保持一个或多个基板；以及具有第二支撑臂的第四驱动机构，其中所述第二基板保持件由所述第二支撑臂可旋转地保持，并且其中，所述第一、第二、第三和第四驱动机构各自被构造为能够被相互独立地控制或驱动。