[实用新型]一种高效真空磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201821593010.0 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN208898985U | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 杜彦;王烁;刘双;宁超;李鹏 | 申请（专利权）人： | 天津南玻节能玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人： | 李莎 |
| 地址： | 301700 天津市武清*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种高效真空磁控溅射设备，包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有下遮挡板，下遮挡板上设有若干第一导粉通孔，下遮挡板的下方设有粉末收集盒，粉末收集盒内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括第二导粉通孔和第三导粉通孔，粉末清除机构还包括除粉擦，除粉擦的下表面与下遮挡板的上表面相贴合，除粉擦的下方设有驱动除粉擦沿第一导粉通孔的长度方向往复直线运动的驱动机构。本实用新型通过除粉擦将落在下遮挡板上的粉末状颗粒扫入到粉末收集盒中，大大减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率。 | ||
| 搜索关键词： | 遮挡板 通孔 粉末收集盒 粉末清除 靶材 磁控溅射设备 本实用新型 高效真空 真空溅射 往复直线运动 粉末状颗粒 更换频率 驱动机构 稼动率 上表面 下表面 贴合 室内 清洁 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种高效真空磁控溅射设备，其特征在于：包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有上遮挡板(3)，靶材的下方设有下遮挡板(4)，靶材的两侧设有侧遮挡板(5)，下遮挡板(4)上设有若干截面呈长方形且相互平行的第一导粉通孔(41)，下遮挡板(4)的下方设有粉末收集盒(6)，粉末收集盒(6)内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括设于下遮挡板(4)上且相互平行的第二导粉通孔(42)和第三导粉通孔(43)，第二导粉通孔(42)长度方向与第一导粉通孔(41)的长度方向相垂直，第二导粉通孔(42)位于第一导粉通孔(41)的一端，第三导粉通孔(43)位于第一导粉通孔(41)的另一端，第二导粉通孔(42)、第三导粉通孔(43)均与各第一导粉通孔(41)相连通，粉末清除机构还包括除粉擦(7)，除粉擦(7)与第一导粉通孔(41)一一对应，除粉擦(7)的下表面与下遮挡板(4)的上表面相贴合，除粉擦(7)的下方设有驱动除粉擦(7)沿第一导粉通孔(41)的长度方向在第二导粉通孔(42)与第一导粉通孔(41)之间往复直线运动的驱动机构(8)。
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