[实用新型]一种胶体粒子掩膜制备装置

摘要

本实用新型提供一种胶体粒子掩膜制备装置。所述的掩膜制备装置包括槽体、升降装置、调速装置、溶液加热恒温装置、粒子平整装置和液面监测装置。其中，升降装置包括电机、螺母丝杠、导轨、移动平台和螺母滑块；调速装置包括电机、调速齿轮组、调速箱、输出轴和锁紧螺母；粒子平整装置包括调整螺栓、压辊、支撑架和平整安装架；液面监测装置包括液面监测计和稳液管。该装置可实现工件的自动旋转和上下微调，可使溶液中的胶体粒子随工件的旋转自组装到工件表面，再通过粒子平整装置去除多余的粒子，从而得到平整的膜层。此装置解决了在圆柱曲面表面加工微结构掩膜制备的技术难题，成本低，加工效率高。

主权项

1.一种胶体粒子掩膜制备装置，包括槽体（1）、升降装置（2）、调速装置（3）、溶液加热恒温装置（4）、粒子平整装置（5）和液面监测装置（6），其特征在于：所述的槽体（1）包括固定槽（101）和溶液槽（102）；所述的升降装置（2）包括电机（201）、螺母丝杠（202）、导轨（203）、螺母滑块（204）和移动平台（205）；所述的调速装置（3）包括电机（301）、调速齿轮组（302）、调速箱（303）、输出轴（304）和锁紧螺母（305）；所述的粒子平整装置（5）包括调整螺栓（501）、压辊（502）、支撑架（503）和平整安装架（504）；所述的液面监测装置（6）包括液面监测计（601）和稳液管（602），所述的升降装置（2）中的电机（201）安装在固定槽（101）的底部；所述的调速装置（3）安装在升降装置（2）的移动平台（205）上，且与升降装置（2）共同设置在固定槽（101）的侧壁上；所述的溶液加热恒温装置（4）设置在溶液槽（102）的槽底；所述的粒子平整装置（5）设置在调速装置（3）的调速箱（303）上；所述的液面监测装置（6）设置在溶液槽（102）外壁出液口处。