[实用新型]一种四工位转靶有效
申请号: | 201821681616.X | 申请日: | 2018-10-16 |
公开(公告)号: | CN208965025U | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 王军岭 | 申请(专利权)人: | 南京欧德工程技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 211103 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种四工位转靶,涉及真空磁控溅射技术,其包括与镀膜机固定的固定板,所述固定板上转动连接有靶轴,所述靶轴端部固定有靶材筒,所述靶材筒外罩设有冷却罩,所述冷却罩上设有与靶材筒外周面配合的开口,所述冷却罩转动设置在靶轴上,所述固定板上设有驱动靶材筒转动的驱动装置。在工作时,通过驱动装置驱动冷却罩转动,即可实现冷却罩上开口位置的调节,在镀膜之前,可以将开口调整到对准工件的位置,这样可以保证靶材上的分子、原子以及电子飞出之后,可以准确的朝向工件飞去,提高了镀膜效率以及镀膜质量。 | ||
搜索关键词: | 冷却罩 靶材 固定板 驱动装置 四工位 镀膜 转动 开口 真空磁控溅射 本实用新型 驱动 镀膜效率 筒外周面 转动连接 转动设置 镀膜机 固定的 上开口 轴端部 外罩 对准 配合 保证 | ||
【主权项】:
1.一种四工位转靶,包括与镀膜机固定的固定板(1),所述固定板(1)上转动连接有靶轴(2),所述靶轴(2)端部固定有靶材筒(5),其特征在于:所述靶材筒(5)外罩设有冷却罩(3),所述冷却罩(3)上设有与靶材筒(5)外周面配合的开口(31),所述冷却罩(3)转动设置在靶轴(2)上,所述固定板(1)上设有驱动冷却罩 (3)转动的驱动装置。
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