[实用新型]一种管式PECVD镀膜装置有效
申请号: | 201821708262.3 | 申请日: | 2018-10-22 |
公开(公告)号: | CN209210921U | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 朱金浩;吴国强;许布;刘义德;陈珏荣 | 申请(专利权)人: | 浙江光隆能源科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455 |
代理公司: | 嘉兴永航专利代理事务所(普通合伙) 33265 | 代理人: | 俞培锋 |
地址: | 314406 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种管式PECVD镀膜装置。它解决了现有镀膜系统中没有混气结构,容易出现石英管内气体混合不充分,严重影响镀膜的一致性,镀膜不稳定等技术问题。本管式PECVD镀膜装置,包括机座,机座上固定有箱体,箱体内设置有内部具有镀膜腔的双层石英管,双层石英管内固定有感应线圈,双层石英管一端上具有取放口,双层石英管上设置有能将取放口封闭住的盖板,盖板和进气管一端相连通,进气管另一端与送气混合机构相连,进气管上设置有电磁阀一,双层石英管另一端和排气管一端相连通,排气管另一端与真空机构相连,排气管上设置有电磁阀二。本实用新型具有镀膜可靠的优点。 | ||
搜索关键词: | 双层石英管 进气管 排气管 镀膜 本实用新型 盖板 电磁阀 取放口 机座 种管 连通 管式PECVD镀膜 送气 镀膜系统 感应线圈 混合机构 混气结构 气体混合 真空机构 镀膜腔 内固定 石英管 封闭 | ||
【主权项】:
1.一种管式PECVD镀膜装置,包括机座,其特征在于,所述机座上固定有箱体,箱体内设置有内部具有镀膜腔的双层石英管,双层石英管内固定有感应线圈,双层石英管一端上具有取放口,双层石英管上设置有能将取放口封闭住的盖板,盖板和进气管一端相连通,进气管另一端与送气混合机构相连,进气管上设置有电磁阀一,双层石英管另一端和排气管一端相连通,排气管另一端与真空机构相连,排气管上设置有电磁阀二,送气混合机构包括转动轴、螺旋管一、螺旋管二、送气引管一、送气引管二和具有空腔的混合桶,混合桶通过支撑脚水平固定在机座上,转动轴水平转动设置在混合桶内,转动轴端部与一能带动其转动的动力结构相连,螺旋管一和螺旋管二分别盘绕在转动轴上,螺旋管一为正向盘绕,螺旋管二为反向盘绕,螺旋管一的一端为封闭端,螺旋管一的中部具有若干气孔一,螺旋管一的另一端和送气引管一的一端相连通,送气引管一的另一端穿过混合桶一侧与外界气源一相连,螺旋管二的一端为封闭端,螺旋管二的中部具有若干气孔二,螺旋管二的另一端和送气引管二的一端相连通,送气引管二的另一端穿过混合桶另一侧与外界气源二相连,混合桶中部还具有出气口,出气口和进气管另一端相连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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