[实用新型]用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置有效
| 申请号： | 201821724624.8 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN208879140U | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 蒋一岚;贾宝申;刘青安;苗心向;吕海兵;周国瑞;牛龙飞;刘昊;马志强;邹睿;姚彩珍;蒋晓东;周海 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 贾晓燕 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，包括：光学元件表面颗粒物在线检测系统，其暗场成像系统位于光学元件的上方且垂直与光学元件；用于对光学元件进行洁净处理的洁净处理装置，其通过水平运动机构和竖直伸缩机构实现对擦拭机构的位置移动，进而可实现对光学元件的表面擦拭；上位机，其与光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通信连接。本实用新型的装置可用于对光学元件的表面进行实时在线监测，同时根据暗场监测的结果来进行非常及时的洁净处理，操作简单便捷，也避免了人工作业带来二次污染的风险，从而减少了光学元件的损伤，有效保障了高功率固体激光装置的稳定运行。 | ||
| 搜索关键词： | 光学元件 洁净处理 光学元件表面 在线检测系统 本实用新型 在线表面 颗粒物 监测 高功率固体激光装置 暗场成像系统 实时在线监测 水平运动机构 洁净 表面擦拭 擦拭机构 二次污染 人工作业 伸缩机构 通信连接 稳定运行 有效保障 装置可用 上位机 暗场 竖直 垂直 损伤 | ||
【主权项】：
1.一种用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，包括：光学元件表面颗粒物在线检测系统，其暗场成像系统位于光学元件的上方且垂直于光学元件；用于对光学元件进行洁净处理的洁净处理装置，其通过水平运动机构和竖直伸缩机构实现对擦拭机构的位置移动，进而可实现对光学元件的表面擦拭；上位机，其与光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通信连接。
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