[实用新型]光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置有效
| 申请号： | 201821755457.3 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN209659683U | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 路如旃;苏红宏 | 申请（专利权）人： | 浙江清华柔性电子技术研究院 |
| 主分类号： | H05B37/02 | 分类号： | H05B37/02;H05B3/02 |
| 代理公司： | 33250 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 舒丁<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 314006 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置，用于调节光源的温度和功率，其特征在于，所述光处理装置的控制系统包括：光处理装置、温度控制模块和功率控制模块。上述光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置使用温度检测单元和功率检测单元对光源的温度及功率进行检测，并通过温度控制单元和功率控制单元对温度调节单元和功率调节单元对光源的温度和功率进行调节，从而使光源维持在低温状态，对光源起到了较好的保护作用，也保证所处理产品表面满足要求的处理温度，从而提高所处理产品的高通过率，同时使光源辐射的紫外光线维持在要求的稳定数值，保证硅胶产品表面处理性能的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 光处理装置 光源 控制系统 处理装置 发光装置 硅胶表面 表面处理性能 功率调节单元 功率检测单元 功率控制单元 功率控制模块 温度调节单元 温度检测单元 温度控制单元 温度控制模块 本实用新型 产品表面 低温状态 光源辐射 硅胶产品 紫外光线 通过率 保证 检测 | ||
【主权项】：
1.一种光处理装置的控制系统，其特征在于，光处理装置包括选择性的吸收或透过光源光线的液态介质,用于对光源的光进行处理,所述控制系统包括温度控制模块，/n所述温度控制模块包括温度检测单元、温度控制单元和温度调节单元；/n所述温度检测单元与所述温度控制单元相连，以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送给所述温度控制单元；/n所述温度控制单元与温度调节单元连接，以根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。/n
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