[实用新型]扩散炉管及扩散炉有效
| 申请号： | 201821763301.X | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN209052804U | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 王诗涛 | 申请（专利权）人： | 珠海格力电器股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B31/10 | 分类号： | C30B31/10;C30B31/16;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 519070*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造设备技术领域，公开一种扩散炉管及扩散炉，扩散炉管包括：炉管本体，内部形成硅片进行扩散反应的工艺腔室，工艺腔内设有用于供硅片经过的硅片流通区；至少一部分位于工艺腔室内的气体输送部件，用于将扩散气体输送至炉管本体内；气体输送部件位于工艺腔室内的部分包括预热段和排气段，排气段上设有至少一个排气孔组，每一个排气孔组包括至少一个排气孔。上述扩散炉管可以用于缓解或消除炉管进气口处的气流紊乱现象。 | ||
| 搜索关键词： | 扩散炉管 工艺腔 硅片 炉管 气体输送部件 排气孔组 扩散炉 排气段 进气口 半导体制造设备 室内 本实用新型 工艺腔室 扩散反应 气流紊乱 气体输送 流通区 排气孔 预热段 体内 扩散 缓解 | ||
【主权项】：
1.一种扩散炉管，其特征在于，包括：炉管本体，内部形成硅片进行扩散反应的工艺腔室，所述工艺腔内设有用于供硅片经过的硅片流通区；至少一部分位于所述工艺腔室内的气体输送部件，用于将扩散气体输送至所述炉管本体内；所述气体输送部件位于所述工艺腔室内的部分包括预热段和排气段，所述排气段上设有至少一个排气孔组，每一个所述排气孔组包括至少一个排气孔。
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