[实用新型]二次结构墙体有效

专利信息
申请号: 201821767082.2 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN209353507U 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 王乐园;谭建国;李晶;王景祥;谢强;周明望;张建波;柳贵林;赵镇 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: E04B2/00 分类号: E04B2/00;E04C3/02
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 200122 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种二次结构墙体,包括:墙体本体,开设有预留洞;以及设于预留洞内,且拼接于墙体本体的过梁结构,过梁结构和墙体本体围合形成供放置电箱的容置口,过梁结构开设有连通于容置口,且供电箱的电线穿设的凹槽,利用过梁结构填补预留洞的一部分空间,使得后续将电箱安装于预留洞内时,电箱和墙体之间空隙小,不需要反复封堵,防止渗漏,解决现有技术中后期修补工作量大且容易造成墙面开裂,存在渗漏隐患的问题。
搜索关键词: 墙体 过梁 预留 电箱 二次结构 容置口 渗漏 本实用新型 供电箱 穿设 封堵 墙面 围合 拼接 连通 工作量 电线 修补 填补
【主权项】:
1.一种二次结构墙体,其特征在于,包括:墙体本体,开设有预留洞;以及设于所述预留洞内,且拼接于所述墙体本体的过梁结构,所述过梁结构和所述墙体本体围合形成供放置电箱的容置口,所述过梁结构开设有连通于所述容置口,且供所述电箱的电线穿设的凹槽。
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