[实用新型]薄膜晶体管阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201821775138.9 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN208767303U 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 刘仕彬;钟德镇;廖家德 申请(专利权)人: 昆山龙腾光电有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 杨波
地址: 215301 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种薄膜晶体管阵列基板及显示装置,该薄膜晶体管阵列基板包括基板;形成于基板上的底栅极;形成于底栅极和基板上的第一绝缘层;形成于第一绝缘层上且位于底栅极上方的有源层;形成于有源层两侧的源极以及漏极;形成于第一绝缘层、有源层、源极以及漏极上的第二绝缘层;形成于第二绝缘层上且位于有源层上方的顶栅极;其中,有源层包括氢化非晶硅层、掺杂非晶硅层以及位于氢化非晶硅层与掺杂非晶硅层之间的氯化非晶硅层。本实用新型提供一种薄膜晶体管阵列基板及显示装置,在提升开态电流的同时降低了漏电流,提高了像素开关的基本性能。
搜索关键词: 绝缘层 薄膜晶体管阵列基板 源层 显示装置 基板 掺杂非晶硅层 氢化非晶硅层 本实用新型 漏极 源极 非晶硅层 基本性能 开态电流 像素开关 氯化 漏电流
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管阵列基板包括基板(10);形成于所述基板(10)上的底栅极(11);形成于所述底栅极(11)和所述基板(10)上的第一绝缘层(12);形成于所述第一绝缘层(12)上且位于所述底栅极(11)上方的有源层(13);形成于所述有源层(13)两侧的源极(14a)以及漏极(14b);形成于所述第一绝缘层(12)、所述有源层(13)、所述源极(14a)以及所述漏极(14b)上的第二绝缘层(15);形成于所述第二绝缘层(15)上且位于所述有源层(13)上方的顶栅极(181);其中,所述有源层(13)包括氢化非晶硅层(131)、掺杂非晶硅层(133)以及位于所述氢化非晶硅层(131)与所述掺杂非晶硅层(133)之间的氯化非晶硅层(132)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山龙腾光电有限公司,未经昆山龙腾光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821775138.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top