[实用新型]薄膜晶体管阵列基板及显示装置有效
申请号: | 201821775138.9 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN208767303U | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 刘仕彬;钟德镇;廖家德 | 申请(专利权)人: | 昆山龙腾光电有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 215301 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种薄膜晶体管阵列基板及显示装置,该薄膜晶体管阵列基板包括基板;形成于基板上的底栅极;形成于底栅极和基板上的第一绝缘层;形成于第一绝缘层上且位于底栅极上方的有源层;形成于有源层两侧的源极以及漏极;形成于第一绝缘层、有源层、源极以及漏极上的第二绝缘层;形成于第二绝缘层上且位于有源层上方的顶栅极;其中,有源层包括氢化非晶硅层、掺杂非晶硅层以及位于氢化非晶硅层与掺杂非晶硅层之间的氯化非晶硅层。本实用新型提供一种薄膜晶体管阵列基板及显示装置,在提升开态电流的同时降低了漏电流,提高了像素开关的基本性能。 | ||
搜索关键词: | 绝缘层 薄膜晶体管阵列基板 源层 显示装置 基板 掺杂非晶硅层 氢化非晶硅层 本实用新型 漏极 源极 非晶硅层 基本性能 开态电流 像素开关 氯化 漏电流 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管阵列基板包括基板(10);形成于所述基板(10)上的底栅极(11);形成于所述底栅极(11)和所述基板(10)上的第一绝缘层(12);形成于所述第一绝缘层(12)上且位于所述底栅极(11)上方的有源层(13);形成于所述有源层(13)两侧的源极(14a)以及漏极(14b);形成于所述第一绝缘层(12)、所述有源层(13)、所述源极(14a)以及所述漏极(14b)上的第二绝缘层(15);形成于所述第二绝缘层(15)上且位于所述有源层(13)上方的顶栅极(181);其中,所述有源层(13)包括氢化非晶硅层(131)、掺杂非晶硅层(133)以及位于所述氢化非晶硅层(131)与所述掺杂非晶硅层(133)之间的氯化非晶硅层(132)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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