[实用新型]一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置有效
申请号: | 201821787595.X | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN209024629U | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 丁蕾 | 申请(专利权)人: | 成都东腾薄膜太阳能有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L31/18 |
代理公司: | 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 | 代理人: | 李永生 |
地址: | 610000 四川省成都市双流*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型属于HIT电池ITO导电薄膜清洗技术领域,本实用新型公开了一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置,包括酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室;风淋烘干腔室包括风淋腔室和烘干腔室;酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室依次连接;酸洗腔室上设有储酸装置;喷淋腔室上设有去离子水储存装置;风淋腔室上设有高压空气存储装置;烘干腔室上设有加热装置,器具依次通过酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室后除去ITO薄膜。本实用新型具有减少备件需求量、减少筛选脱膜掩膜盖的人力和降低了人力与物力成本的特点。 | ||
搜索关键词: | 腔室 烘干腔室 风淋 喷淋腔 酸洗 本实用新型 掩膜 盖板表面 沉积 清洗 储存装置 储酸装置 存储装置 高压空气 加热装置 清洗技术 去离子水 物力成本 依次连接 备件 脱膜 需求量 电池 筛选 | ||
【主权项】:
1.一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置,其特征在于:包括酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室;所述风淋烘干腔室包括风淋腔室和烘干腔室;所述酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室依次连接;所述酸洗腔室上设有储酸装置;所述喷淋腔室上设有去离子水储存装置;所述风淋腔室上设有高压空气存储装置;所述烘干腔室上设有加热装置,器具依次通过酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室后除去ITO薄膜。
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