[实用新型]新型磁控溅射镀膜机的真空容器结构有效
| 申请号： | 201821828023.1 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN209081972U | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | 林孟;刘潺;王长松 | 申请（专利权）人： | 广东信诺真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 刘晓敏 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种新型磁控溅射镀膜机的真空容器结构，其包括真空腔体、腔门、镀膜单元和抽气口，所述真空腔体的腔壁的上间隔设有若干所述的镀膜单元，任意两两相邻的镀膜单元之间的位置上均设有一抽气口。本实用新型的结构设计巧妙、合理，工艺气体从镀膜单元中间进入，分左右两边从抽气口抽出，使得工艺气体在镀膜区域分布更均匀，因而镀制的薄膜更均匀，膜层质量更好；而且相邻两镀膜单元之间存在有抽气口，可以隔绝两个镀膜单元的工艺气体，避免相邻两个镀膜单元的工艺气体相互干扰，进一步提升镀膜质量；同时由于镀膜单元是分开的，所以单次温升会小很多，更能及时有效降低镀膜过程中基材的热量积累，利于低温镀膜，保证产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜单元 工艺气体 抽气口 本实用新型 溅射镀膜机 新型磁控 真空腔体 真空容器 低温镀膜 镀膜过程 镀膜区域 热量积累 镀膜 镀制 基材 膜层 腔壁 腔门 温升 薄膜 抽出 两边 保证 | ||
【主权项】：
1.一种新型磁控溅射镀膜机的真空容器结构，其包括真空腔体、腔门、镀膜单元和抽气口，其特征在于：所述真空腔体的腔壁的一部分上设有开口，所述腔门设置在真空腔体上，并能将所述开口封闭，所述真空腔体的腔壁的另一部分上呈圆心对称间隔设有若干所述的镀膜单元，任意两两相邻的镀膜单元之间的位置上均设有一抽气口。
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