[实用新型]一种掩模版取放装置、曝光系统及光刻机有效
| 申请号： | 201821877705.1 | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN208922065U | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 沈雪;苏延洪;柯汎宗;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种掩模版取放装置、曝光系统及光刻机，所述掩模版取放装置包括一对极性相反的电极板、正离子吸附组件、负离子吸附组件及一电源，所述电极板中的正极板连接于所述电源的正极，负极板连接于所述电源的负极，所述正离子吸附组件设置于所述负极板的靠近所述正极板的一端面上，所述负离子吸附组件设置于所述正极板的靠近所述负极板的一端面上，所述正离子吸附组件用于吸附所述掩模版周边的硫酸根离子，所述负离子吸附组件用于吸附所述掩模版周边的氨根离子。能够有效去除掩模版周围的硫酸根离子和氨根离子，改善了掩模版上霾斑的产生，提高了掩模版的曝光图形的质量。此外，还降低了生产成本，提高了生产产能。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模版 吸附组件 取放装置 负极板 负离子 正极板 正离子 硫酸根离子 电源 氨根离子 曝光系统 电极板 光刻机 吸附 正极 本实用新型 负极 极性相反 曝光图形 产能 去除 生产成本 生产 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版取放装置，其特征在于，包括一对极性相反的电极板、正离子吸附组件、负离子吸附组件及一电源，所述电极板中的正极板连接于所述电源的正极，负极板连接于所述电源的负极，所述正离子吸附组件设置于所述负极板的靠近所述正极板的一端面上，所述负离子吸附组件设置于所述正极板的靠近所述负极板的一端面上，所述正离子吸附组件用于吸附所述掩模版周边的硫酸根离子，所述负离子吸附组件用于吸附所述掩模版周边的氨根离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司，未经德淮半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821877705.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
